国际名家讲堂第二十三期国际半导体最新技术和应用研讨会2016年6月28日中国·南京参会人数:限200人日程安排①FinFET—从基本概念到未来趋势时间:6月28日8:30-12:00主讲人:胡正明教授②Intel,ARM,NXP最新技术分享和交流时间:6月28日14:00-17:00主办单位:工业和信息化部人才交流中心MIITEC比利时微电子研究中心IMEC协办单位:南京市浦口区人民政府江苏南京浦口人力资源服务产业园 江苏省半导体行业协会专家简介专家简介胡正明 FinFET技术发明人FD-SOI工艺发明人IEEEFellow美国工程院院士中国科学院外籍院士美国加州大学伯克利分校教授胡正明(Ch